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甘肅泰升化工科技有限公司

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實現(xiàn)永久無垢化清潔運行的技術機理

發(fā)布日期:2022-12-07     瀏覽次數(shù):89

實現(xiàn)永久無垢化清潔運行,由二大部分組成:通過對系統(tǒng)進行不停車在線除垢,清除系統(tǒng)換熱面99%以上的污垢:該項作業(yè)不影響系統(tǒng)正常運行,不腐蝕系統(tǒng)材質(zhì)(腐率小于0.06g/m2h或0.05mm/y)。二是系統(tǒng)具備清潔無污的內(nèi)環(huán)境后,仍然通過連續(xù)低濃度在線除垢與阻垢緩蝕協(xié)同組合,達到徹底杜絕污垢出現(xiàn)目的。

我們可以看到,這項技術的核心就是徹底除垢和徹底防垢都是通過“高水準的在線除垢”來實現(xiàn)的,我們將這種在線除垢的具體技術產(chǎn)品定名為“運行凈”。

這是一項領先國際同行水準的21世紀新技術,獲得我國政府多項專業(yè)鑒定和國家發(fā)明專利,98年開始應用至今,質(zhì)量結(jié)果全部符合設計數(shù)據(jù),應用過程也積累了豐富的作業(yè)經(jīng)驗。目前我們這項實現(xiàn)永久無垢化清潔運行技術,得到國家發(fā)改委和國務院節(jié)能辦的重視。

1、技術創(chuàng)新性以及與現(xiàn)有技術的區(qū)別

(1)本項目的基本原理及關健技術內(nèi)容

傳統(tǒng)的化學清洗是用強酸和緩蝕劑進行的,其清洗范圍是針對單臺(套)工業(yè)設備內(nèi)水垢或銹垢的清洗。無法對循環(huán)水系統(tǒng)進行整體清洗。目前世界各國對在線運行的循環(huán)水系統(tǒng)整體清洗均無良策。

常見的循環(huán)水系統(tǒng)主要有:工業(yè)循環(huán)冷卻水系統(tǒng)、集中采暖供熱循環(huán)水系統(tǒng)、中央空調(diào)冷媒冷卻水循環(huán)系統(tǒng)。這類系統(tǒng)中連接許多不同用途的換熱設備,若使用傳統(tǒng)的酸洗方法清洗,系統(tǒng)必須在長時間停車的狀態(tài)下進行,清洗成本和現(xiàn)場操作難度較大,集中反應在藥劑成本較高、清洗步驟復雜、現(xiàn)場施工難度過大、設備因清洗停機無法運行方面,同時環(huán)保也難以通過。實際上,這類系統(tǒng)大多處于長年運行之狀態(tài),通常在大檢修期間停車,停車時間很短,因維修的需要,很難獲得清洗的條件。

解決大型循環(huán)水系統(tǒng)運行期間的高除垢清洗和保證系統(tǒng)永久無垢化清潔運行,是整個工業(yè)生產(chǎn)所希望的內(nèi)容。也是徹底告別系統(tǒng)帶垢運行的,具有劃時代的重大意義。我們從這項技術的研究思路、成果特征、化學結(jié)構(gòu)、應用效果等幾個方面進行闡述。

思路一:

清除水垢的傳統(tǒng)思路和機理:

①水垢的主要成分為CaCO3、Mg(OH)2CaSiO3CaSO4;金屬氧化物的主要成分為FeO、a-Fe2O3、y-Fe2O3、Fe3O4、CuO、Cu2O等。根據(jù)化學理論原理,這類化合物只能溶解在無機或有機酸中。除此之外,其它無機或有機化合物均無法與它們反應而達到溶解的目的。

CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O

 Fe2O3+6H+=2Fe3++3H2O

Fe+2H+=Fe2++H2

②由于酸對金屬的強烈腐蝕等原因,在清洗過程中,必須添加一定計量的酸洗緩蝕劑,使其與金屬之間通過特殊的化學配位鍵相互結(jié)合,產(chǎn)生金屬與酸洗介質(zhì)之間致密的膜,隔絕兩相之間任何接觸,從而有效的保護金屬不受腐蝕。

③傳統(tǒng)的酸洗過程中伴有大量的氣體產(chǎn)生,導致在線酸洗的不可能性,同時酸為強電解質(zhì)對于多材質(zhì)金屬組成的系統(tǒng)設備,存在難以克服的電化學腐蝕,對設備的使用安全構(gòu)成威脅。

思路二:

按上述理論,清除水垢只有使用酸來溶解,而酸在溶解水垢時必然會產(chǎn)生大量氣體,氣體的產(chǎn)生導致循環(huán)水整體系統(tǒng)無論是停車或運行狀態(tài)清洗的無法實現(xiàn)。后來我們考慮,不一定非得以溶解的方式清除水垢,假如我們將水垢通過一定的技術手段,使其以微粒或分子狀態(tài)均勻的分散在水中,最終排出系統(tǒng),完全可以達到我們希望的除垢目的。

思路三:

要使堅硬的水垢,分散為微?;蚍肿訝顟B(tài),必須克服水垢分子之間的范德華引力(分子間力)。我們將思路放在建立大分子中高能量的官能團方面,試冬通過官能團的能量來克服水垢分子之間的范德華引力(分子間力),使水垢分子被吸附在官能團周圍,達到除垢目的。

■分子特性

“運行凈"系線型高分子縮聚物,見下圖所示:

20211208115335143.png


該縮聚物中有大量活性較高的官能團,我們將分子鏈截取AB段放大后可看出官能團的分布情況,見上圖所示。我們將右圖的部分放大后看出:

20211208115448234.png


從圖中看出,“運行凈”分子官能團表面有一個保護層,該層的主要作用:

①由于官能團的活性較高,無保護層的“運行凈”存放有效期不足一年,加該保護層后,“運行凈”的存放時間可長達六年以上。

②“運行凈”水溶液本身的pH值在6.2~7.9,含有保護層的“運行凈”水pH值在1.8~3.1之間。該保護層遇水后開始形成游離狀態(tài),如圖所示。

③游離的保護層在清洗時有兩個作用,一是可直接清除系統(tǒng)中的銹垢,二是在金屬表面形成鈍化膜。當系統(tǒng)內(nèi)表面無金屬氧化物時,游離的保護層可自行水解而失效。

④實際系統(tǒng)在線除垢清洗時,“運行凈”加入系統(tǒng)水后,水的pH值由1.8~3.1左右,逐漸上升到6.2~7.9,這一過程大約在清洗的第一天至第六天完成,之后清洗過程,pH值始終保持不變。

在線除垢機理

保護層脫落后的這類官能團,其性質(zhì)和活性大小決定“運行凈”對水垢、特殊水垢的清除結(jié)果。清除機理分兩個階段,第一階段是“運行凈”分子官能團的能量遠遠大于水垢分子之間的分子間力(即范德華引力),當“運行凈”分子官能團與水垢分子接觸時,會克服水垢分子之間的引力,迫使水垢分子向官能團遷移,達到除垢的目的。與水垢之間的作用如圖所示:

20211208115603821.png

請注意,該階段的除垢過程實質(zhì)上是一個物理過程,在實際清洗過程中,一般自第一天起至第二十天的清洗為該階段過程,具體表現(xiàn)為系統(tǒng)水由原來的澄清狀態(tài)開始出現(xiàn)不同程度的渾濁,第十七天到二十天時混濁度達到最大值。第二階段是吸附在“運行凈”分子上的水垢分子,兩者開始出現(xiàn)化學反應,具體表現(xiàn)為下圖所示:

20211208115706950.png

第二階段的化學反應通常在系統(tǒng)清洗時的第二十天至第二十八天左右完成,具體表現(xiàn)為渾濁的系統(tǒng)水開始逐漸澄清。

(2)項目創(chuàng)新點:技術創(chuàng)新、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)創(chuàng)新、產(chǎn)品性能及使用效果

創(chuàng)新點:

①改變了目前所用技術的理論基礎:

目前清除水垢是用酸溶解,酸在溶垢時必然會產(chǎn)生大量氣體,氣體的產(chǎn)生導致循環(huán)水整體系統(tǒng)無論是停車或運行狀態(tài)清洗的無法實現(xiàn)。

②改變了以往的清洗工藝方案:

我們設計了高分子縮合物中的多個官能團的這種分子結(jié)構(gòu),并在重點增加這類官能團的化學活性方面進行了大量的工作,最終通過官能團的能量來克服水垢分子之間的范德華引力(分子間力),使水垢分子被吸附在官能團周圍,達到除垢目的。

③改變了目前清洗行業(yè)的現(xiàn)狀:

通過這一技術的實施,徹底解決了所有大型循環(huán)水系統(tǒng)在生產(chǎn)運行過程中,無法整體清洗的歷史。

④改變了酸對金屬的腐蝕破壞:

運行凈對系統(tǒng)不銹鋼、碳鋼、低合金鋼銅及銅合金腐蝕速度0.03g/m2.h。

⑤改變了清洗必然存在電化學腐蝕現(xiàn)象的發(fā)生:

運行凈分子為弱電解質(zhì),并在清洗的同時,進行金屬表面的成膜反應,抑制了金屬的陰極及陽極電流的出現(xiàn)。

更重要的是,通過使用“運行凈”技術,改變了以往的工業(yè)及民用循環(huán)水系統(tǒng)阻垢、緩蝕等技術上的不足,可以使水系統(tǒng)達到終身無垢的目的,使循環(huán)水系統(tǒng)的運行工藝參數(shù)始終符合設計值。

下述內(nèi)容含蓋整個國際、國內(nèi)化學清洗行業(yè),清洗質(zhì)量按中國國家行業(yè)標準比較

簡介工業(yè)化學清洗的行業(yè)內(nèi)容:

a工作內(nèi)容:通過一定的化學反應,達到清除設備、系統(tǒng)內(nèi)的污垢;

b.主要應用范圍:工業(yè)用水設備、容器、管道及系統(tǒng)單元;

c.清除主要污垢:水垢(CaCO3、MgCO3、CaSiO3、CaSO4)

銹垢(Fe3O4、Fe2O3FeO、CuO、Al2O3)

d對清洗基本要求:清洗不得造成金屬的腐蝕(國家標準:碳鋼≤3g/m2.h)

除垢率:水垢≥85%;

金屬氧化物≥95%

e. 清洗成膜要求:清洗結(jié)束后,被清洗的金屬表面應形成完整的鈍化膜。

創(chuàng)新內(nèi)容:

(1)系統(tǒng)在線除垢的創(chuàng)新:

目前系統(tǒng)在線除垢技術;無。所有類型的循環(huán)水系統(tǒng)無法符合在線清洗的除垢率標準。

我們系統(tǒng)在線除垢技術:運行凈。所有類型的循環(huán)水系統(tǒng)實現(xiàn)在線除垢。

(2)技術理論的創(chuàng)新:

目前技術理論:酸洗技術。通過酸(通常使用的10%鹽酸)來溶解水垢和銹垢,通過使用緩蝕劑防止酸對金屬的腐蝕;不足之處:對金屬的酸腐蝕控制有一定的難度,無法阻止不同材質(zhì)之間的電化學腐蝕;清洗對設備有不同程度的損傷。清洗過程中伴隨大量氣體的產(chǎn)生。另外對硅酸鹽、硫酸鹽水垢無法清除。酸洗中的緩蝕劑分為氧化還原型、親附型和配位電子對型,其中配位電子對型的緩蝕劑較好,但掌握這項技術的人很少,大多使用親附型,該型還存在突然失效性、無抗電化學腐蝕能力等技術問題。

 

我們技術理論:運行凈在線除垢法。以高分子縮合物中大量強有力的分子官能團,通過官能團自身具有大于水垢及銹垢分子間力(范德華引力)的高能量,迅速的吸附水垢及銹垢分子,使其脫離設備金屬本體達到除垢之目的。該高分子縮和物本具有中性的化學特征,與金屬之間無化學及電化學反應,因此不存在金屬腐蝕問題,清洗過程無氣體出現(xiàn)。除垢率完全符合國標的要求。

(3)產(chǎn)品特性的創(chuàng)新:

目前產(chǎn)品特性:強酸,強堿,腐蝕性大,不能清洗多材質(zhì)組成的設備,不能清洗硅酸鹽、硫酸鹽水垢,需另外安裝專用的清洗設備,清洗過程需要嚴格的多項目化驗工作,清洗工序多,易產(chǎn)生二次浮銹,工作強度極大,不能清洗全循環(huán)水系統(tǒng),清洗只能針對單臺設備,清洗必須在停產(chǎn)時進行等。

我們產(chǎn)品特性:中性,無腐蝕,能清洗多材質(zhì)設備,能清洗所有水垢類型,無需清洗專用設備,清洗過程不需要化驗,一步法完成所有清洗項目,操作為一次性投入法,十分簡單,工作強度極低,可一次性完成循環(huán)水系統(tǒng)所有設備、容器、管道等清洗任務,清洗過程無須停產(chǎn)。

(4)應用范圍的創(chuàng)新:

目前應用范圍:單臺、單材質(zhì)設備的清洗。

我們應用范圍:循環(huán)水系統(tǒng)內(nèi)所有設備的清洗。如工業(yè)冷卻循環(huán)水系統(tǒng),每個系統(tǒng)通常包含100-2000臺工業(yè)設備;城市集中采暖供熱系統(tǒng),每個系統(tǒng)通常包含5-50萬戶家庭;中央空調(diào)系統(tǒng)、動力鍋爐系統(tǒng),可構(gòu)成獨立循環(huán)的其它水系統(tǒng)。

(5)清洗工藝的創(chuàng)新

目前清洗方式:設備停運后,方能安裝專用清洗設備,然后按“堿洗→轉(zhuǎn)型→酸洗→氨洗→漂洗→中和→鈍化”的工藝步驟進行清洗;每個步驟在進行過程中,涉及到配藥、注入、強制循環(huán)、檢驗、水洗等工作內(nèi)容;所有各步驟的清洗殘液還必須得經(jīng)過環(huán)保處理后排放,最后只能完成一臺設備清洗。

我們清洗方式:可在正常生產(chǎn)的情況下,將本品一次性加入系統(tǒng)中,即可完成所有設備、所有清洗工作。清洗一套工業(yè)循環(huán)水系統(tǒng),不用停產(chǎn)只需40天,清洗質(zhì)量達標率100%;而目前的清洗方式同樣完成該系統(tǒng)內(nèi)所有設備的清洗,需要停產(chǎn)清洗1-20天,清洗質(zhì)量達標率46%。

(6)安全性的創(chuàng)新:

目前安全情況:清洗過程設備易腐蝕;操作人員會受強酸強堿侵蝕受傷,甚至殘廢;清洗不當有化學品燃燒、爆炸、中毒的危險,排放液可至農(nóng)作物、魚類死亡。

我們安全情況:無上述問題,清洗除垢過程無任何安全隱患。

節(jié)水效果的創(chuàng)新

目前節(jié)水效果:無。

我們節(jié)水效果:工業(yè)冷卻循環(huán)水系統(tǒng)內(nèi)存在污垢,會導致冷卻效果變差,尤其夏季系統(tǒng)無法冷卻到規(guī)定的溫度,迫使系統(tǒng)使用直排水法進行冷卻,造成大量驚人的水的浪費;采用運行凈可完全避免這個問題。

(8)環(huán)保排放的創(chuàng)新

目前環(huán)保排放:嚴重不合格。

我們環(huán)保排放:完全合格。

(9)清洗成本的創(chuàng)新:我們清洗成本為目前的15%-40%。

該清洗劑比目前使用的酸洗技術,在清洗安全、操作、成本、環(huán)保和應用范圍方面,有了質(zhì)的改變。這正是“運行凈”產(chǎn)品的創(chuàng)新點所在。



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